超純水設備結合膜分離技術，為芯片生產助力

　　據悉，2021年，中芯國際全年營收、第四季度營收和凈利潤均創歷史新高。對此，有關人士表示，這組數據體現了中國在芯片領域的快速崛起。在這種情況下，中國仍在該領域加碼、投資布局，相信國產芯片很快就能迎來屬于自己的時代。

　　如今，科學技術顯然已經成為世界的"主戰場”。我國對芯片的需求也越來越高，在眾多科研人員的不斷努力下，迎來了全新的變革，現在國內的芯片技術已經實現了突破，中國企業已經啟用國產芯片，訂單需求也實現了十倍增長。

　　芯片的制造過程很復雜，從設計、生產到包裝和測試，每一步都非常重要。制造過程中需要解決的問題有耗材、晶圓、光刻膠、超純水、各種離子等。接下來，我們就來說一說超純水在芯片生產中的應用。

　　超純水設備結合膜分離技術，利用反滲透結合EDI裝置制備超純水，出水電阻率可達18.2MΩ.cm(25℃)，滿足半導體生產用水的需求。同時，設備還配備了反滲透預脫鹽技術，以確保設備的出水水質。同時，EDI處理裝置產生的廢水較少，不會污染環境，具有較高的環境效益和經濟效益，具有廣闊的發展前景。

　　超純水設備具有連續出水、無需酸堿再生和無人值守、安裝簡便、操作方便等優勢，出水水質符合電池用水相關標準，為芯片用水保駕護航。隨著超純水設備技術不斷完善，開啟了各行業生產發展的新局面。許多企業在生產過程中對水質純度有不同的要求，并得到了廣泛的應用，如清洗設備用水、精密產品生產用水、檢測用水等。超純水設備可保證芯片良品率，是芯片生產的重要設備之一。